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AR Category: Press Release
Pruebas de nanoindentación revolucionarias con reconocimiento de patrones de imagen
Irvine CA, 1 de abril de 2009 - Nanovea ha anunciado hoy un avance decisivo en Nanoindentación combinando capacidades avanzadas de reconocimiento de patrones de imagen con el nanoindentador más avanzado para aplicaciones de control de calidad. Nanovea ha combinado su cámara de visión artificial PRVision con los ensayos de nanoindentación, lo que permite el reconocimiento automático de características elegidas con precisión sin apenas interacción por parte del usuario. El software de fácil manejo PRVision de Nanovea permite realizar ensayos automáticos de dureza y módulo elástico en muestras con patrones o en áreas de interés elegidas específicamente. Las propiedades de nanoindentación, incluidas la dureza y el módulo elástico, pueden medirse y registrarse automáticamente. Las bajas cargas "casi no destructivas" asociadas a los ensayos de nanoindentación hacen de esta técnica una herramienta de vanguardia ideal para supervisar el control de calidad de entornos en los que la dureza y el módulo elástico son cruciales: Microelectrónica, energía solar, productos farmacéuticos y muchos otros. "Hasta ahora, la nanoindentación se realizaba mediante opciones de mapeado primitivo. Nuestra opción PRVision acelerará las pruebas de nanoindentación y abre la puerta a aplicaciones de control de calidad de producción automática a gran escala en las que la dureza y el módulo elástico son los mejores parámetros de control." afirmó Pierre Leroux, Director General/Presidente de Nanovea.
Top Semiconductor Mfg Chooses Nanovea Profilometer Over Many
Irvine CA, March 5, 2009 – Nanovea announced today that it will ship a top Semiconductor Mfg its first HS1000 Profilometer. The HS1000 delivery adds yet another highlight to Nanovea’s impressive Optical Profiler history and offers customers a more advanced measurement speed option for high throughput demands. The HS1000 Profilometer is equipped with an unmatched combination of measurement speed, automation and nanometer resolution.Until the Nanovea HS1000 Profilometer, full automation and the unique advantages of white-light axial chromatism technique were features rarely found in a single high scanning speed instrument; a feature the Client requested and only Nanovea could deliver. Traditional high speed instruments would typically sacrifice one feature for another, speed or resolution, which limited the users overall measurement capability. The HS1000 Profilometer stage speed can reach 1m/s, up to 50 times faster than most optical profilers in its class. The HS1000 Profilometer is equipped with a 31KHz white-light axial chromatism sensor and XY measurement area of 400mm x 600mm, which at maximum stage speed can measure 1 point every 32µm and traverse the full 400mm in less than 1 sec. (higher resolution can be obtained with proportionally slower stage speeds). In addition, the HS1000 Profilometer has a machine vision camera option that allows auto-recognition on precisely chosen surface features with little to no user interaction. The user-friendly software and the optional machine vision camera allows for an automatic scan of the surface to recognize all features of interest. These features can then be automatically measured or the user can select from a list from which to measure. The combination of superior overall features makes the HS1000 Perfilómetro unquestionably the instrument of choice for high throughput demands found in Semiconductor, Solar and Pharmaceutical industries. “It goes without saying the importance of gaining this client’s choice. I’m proud of our team’s ability to deliver with such an important opportunity,” Said Craig Leising, Product Manager, Nanovea.
El perfilómetro Nanovea recibe la certificación de sala limpia “Clase 1”
Irvine, California, 22 de enero de 2009. Nanovea Inc. ha anunciado hoy la instalación satisfactoria de su perfilómetro en la sala limpia de clase 1 de un fabricante líder en microelectrónica. Las salas limpias de clase 1 son conocidas por su estricto cumplimiento de las normas y sus exigentes requisitos en cuanto a los materiales utilizados en el desarrollo de los instrumentos. Las avanzadas capacidades de perfilado 3D sin contacto de los perfilómetros de Nanovea serán ahora una opción para los requisitos más estrictos de las salas limpias microelectrónicas. Mediante el uso de etapas lineales motorizadas “limpias” y la selección adecuada de materiales, los ingenieros de Nanovea diseñaron un sistema a medida que fuera compatible con las estrictas normas de clase 1. Las salas limpias de clase 1 tienen un nivel de contaminación estrictamente controlado y permiten muy pocas partículas de cualquier tipo. La selección de materiales fue crucial en el diseño de las etapas X-Y, de modo que se emitieran pocas partículas al aire durante las pruebas. El sistema también se diseñó con un alto grado de planitud, precisión y un nivel de automatización que permite al usuario medir múltiples áreas y unirlas. Esto permitirá al usuario crear una gran superficie plana para comparar la planitud relativa con muy poca interacción por su parte. El área medible del perfilómetro personalizado puede ser de hasta 30 cm x 30 cm con una resolución vertical de hasta 2 nm. También hay disponible un diseño para escanear piezas grandes, pesadas e incluso inamovibles. Esto es solo un pequeño ejemplo de los proyectos que los ingenieros de Nanovea han personalizado. También han proporcionado un perfilómetro de alta velocidad construido a medida con velocidades de más de 30 000 puntos/segundo y visión artificial con reconocimiento de imágenes para mejorar la eficiencia. Además, Perfilómetro Se han construido con capacidades de escaneo personalizadas para obtener mediciones de la superficie tanto de la parte superior como de la inferior, al tiempo que se mide el espesor del material, todo ello con una resolución nanométrica. “La incorporación del diseño de sala limpia permitirá a Nanovea trabajar más estrechamente con entornos estrictos y demuestra una vez más nuestra dedicación a la ingeniosidad”, afirmó Craig Leising, director de producto de Nanovea, Inc.
Perfilómetro Frenos Abrir nuevos caminos Abrir nuevos caminos
Irvine, California, 2 de diciembre de 2008. Nanovea ha anunciado hoy que su línea de perfilómetros sin contacto incluirá ahora un sistema con velocidades de medición más de 180 veces más rápidas. Con este nuevo avance, el perfilómetro de Nanovea tendrá ahora la capacidad de alcanzar velocidades adecuadas para entornos de producción y control de calidad con mayores restricciones de tiempo. Este nuevo avance en la tecnología de perfilómetros supone un gran avance para su uso en estos entornos concretos. Antes de este nuevo avance, esta técnica de perfilado requería una medición punto por punto, que adquiría puntos de datos individuales mientras la muestra que se medía se movía hacia adelante y hacia atrás bajo la óptica para crear un mapa 3D. Con esta nueva tecnología, habrá una línea de 180 puntos medibles que se adquirirán simultáneamente, lo que reducirá significativamente el tiempo necesario para crear un mapa 3D de la superficie. “Estoy entusiasmado con esta nueva capacidad; nos permitirá trabajar con nuevos mercados que requieren un alto rendimiento”, afirmó Craig Leising, director de producto de Nanovea. El nuevo Perfilómetro El sistema utiliza una matriz de 1 x 180 puntos de medición y puede escanear hasta 1800 líneas por segundo para crear una velocidad de escaneo total de hasta 324 000 puntos por segundo. El sistema será capaz de medir grandes áreas en segundos con alta resolución y puede equiparse con software de reconocimiento de imágenes para una inspección de alta velocidad. Las opciones también incluirán un espejo de escaneo para crear una función de escaneo de campo que medirá 180 puntos por 230 líneas. También estará disponible un sistema en línea personalizado.
Técnica óptica de detección de profundidad sin contacto de Nanovea, pendiente de patente.
Irvine, California, 20 de octubre de 2008. Nanovea tiene una patente en trámite sobre la detección óptica de profundidad sin contacto para pruebas instrumentadas de indentación y rayado. Esta “revolucionaria” técnica sin contacto proporciona mediciones de altura precisas durante las pruebas de rayado y dureza a micro y macroescala. Antes de este nuevo avance, cualquier prueba requería el contacto mecánico con la superficie, lo que resultaba imposible durante el movimiento de la muestra, para tener en cuenta la conformidad del sustrato y la máquina. Ahora, con la capacidad de observar la profundidad precisa del indentador sin contacto, el movimiento de la muestra ya no es un problema y se puede registrar directamente la profundidad real del indentador. “Estamos muy entusiasmados con nuestra nueva técnica y esperamos poder mostrar sus excelentes resultados”, afirmó Pierre Leroux, director general de la división de pruebas de superficies de Micro Photonics. “Buscamos constantemente nuevas formas de ofrecer instrumentos tan avanzados como las soluciones a las que están destinados; creo que esta técnica cumple precisamente ese objetivo. “Los módulos de alta precisión para la determinación de las propiedades mecánicas micro/macro de recubrimientos y sustratos delgados/gruesos utilizando pruebas instrumentadas de indentación y rayado/adhesión. Son ideales para la caracterización de recubrimientos industriales, desde capas procesadas por plasma, utilizadas en tecnología óptica y de semiconductores, hasta recubrimientos decorativos y protectores, utilizados para piezas de automóviles y bienes de consumo. Nanovea Micro/Macro Comprobadores mecánicos Utiliza sensores de fuerza y profundidad independientes para obtener curvas de profundidad frente a carga que se utilizan en pruebas de indentación y rayado instrumentadas. El resultado es la técnica de medición más rápida y precisa del sector, capaz de funcionar con cualquier forma y textura de material, y que resuelve los retos asociados a los métodos más antiguos para medir la altura del indentador, como el hundimiento en materiales blandos y el movimiento de referencia en superficies rugosas.
Formula Drift Racing Using Material Testing Instruments
Irvine, California – August 2, 2007 – Micro Photonics, announced today the company was named “Official Material Testing Equipment Supplier” for the Formula Drift Professional Racing Series.The sponsorship teams Micro Photonics, a leading provider of instrumentation for material testing and analysis, with Formula Drift Holdings, LLC; the only professional drift racing series in North America. Under the agreement Micro Photonics agrees to provide Formula Drift with instrumentation, and in exchange, Formula Drift grants Micro Photonics all accompanying sponsorship rights and privileges.“Micro Photonics is looking forward to a great relationship with the Formula Drift Professional Racing Series.” Said Pierre Leroux, General Manager, Micro Photonics Surface Test Division. “Since we offer such a diverse selection of instruments, we can provide everything drivers need for equipment verification and quality control. Plus, it’s exciting to be involved with Drift Racing, the interest is tremendous.”Drift racing a highly skilled motor sport that requires drivers to out maneuver their competition by finessing their cars with power slides around a series of corners on a set course, pushing the car’s tire traction to the limits. “Every drift racer on the planet needs a tire durometer!” said Randy Hembrey, Chief Steward Formula Drift Professional Racing Series. The handheld instruments will be used during races to verify tire hardness, critical to race performance.In addition to instrumentation, drivers and staff will benefit from Micro Photonics’ mechanical engineering experience. The alliance also provides an opportunity to build relationships with other Formula Drift Sponsor organizations. Micro Photonics has been a leading provider of material testing instruments and laboratory testing for more than fifteen years. The company specializes in: Nano and Micro Mechanical Testing, X-Ray Micro Tomography, X-Ray Diffraction, 3D Non-Contact Profilometer, Thin Film Analysis, Biological Imaging Instruments and NSOM, SPM & AFM systems.
New Multipen Turret From Micro Photonics Offers Nine Sensor Options in One Assembly
Irvine CA, July 7, 2006 – Micro Photonics Inc. today, introduced the new multi optical pen turret offering greater flexibility in chromatic confocal measurements. Incorporating the multi optical pen turret onto the Profilometer allows users to quickly and easily change optical pens without spending down time removing or adding new pen assemblies. Comprised of three unique magnifiers and three different chromatic lenses, the multi optical pen Turret offers up to nine optical sensor options in a single assembly. The turret easily integrates onto any new or existing Nanovea Profilometer 3D Optical Non-Contact Optical Profiler. Pen combinations are comprised from over thirty different sensor selections available from Micro Photonics. Choices include five magnifiers, ranging from 3.3 mm to 29 mm focal lengths, and six different chromatic lenses, 130 µm to 27 mm depth of fields. Pen combinations can achieve maximum axial resolution of 5 nm, accuracy to 20 nm and max slope to 87º for diffusive objects. This Nanovea Micromeasure option is available exclusively from Micro Photonics Inc. Micro Photonics has been a leading provider of materials technology instruments and laboratory testing since 1992. The company specializes in: Nano and Micro Mechanical Testing, X-Ray Micro Tomography, Ellipsometery, X-Ray Diffraction, 3D Non-Contact Perfilómetro, análisis de películas delgadas, instrumentos de imagen biológica y sistemas NSOM, SPM y AFM.
Micro Photonics unveils new lower priced modular chromatic confocal optical pens.
Irvine CA, March 24, 2006 – Micro Photonics Inc. today introduced the latest line of chromatic confocal optical pens for profilometry, microtopography, roughness, auto-focus vibrometery, in-line inspection quality control, and thickness measurements. The new modular design allows up to 30 different optical pen configurations for specific depth of field, spot size, working distance, object slope and photometric efficiency. Users can choose from a selection of five magnifiers, ranging from 3.3mm to 29mm focal lengths, and six different chromatic lenses, 130µm to 27mm depth of fields. Pens can achieve maximum axial resolution of 5nm, accuracy to 20nm and max slope to 87º for diffusive objects. Based on white light chromatic aberration, the pens have superior lateral resolution (1.1µm) and vertical resolution (5nm); which make them a better choice than laser triangulation sensors for applications where high resolution measurements are critical, as sometimes found in vibrometry, in-line inspection and quality control applications. For challenging materials such as, textiles, polymers, black or dark blue materials, high aspect ratio surfaces, and materials of low reflectivity, white light chromatic aberration is often the only appropriate technique. Micro Photonics believes new competitive pricing will attract clients who previously considered white light chromatic aberration too expensive. “Clients have known of this technique, and its benefits for OEM applications, but because of the price it was passed on in favor of cheaper laser sensors. The new prices are 40% lower on average, which will make a difference.” said Pierre Leroux, General Manager, Surface Test Division. Acquisition speed to 30,000Hz meets specific vibrometry, in-line and off-line quality control requirements. The system can be used as a stand alone unit or connected to a computer using various software packages. Integrated solutions such as the Micromeasure Profiler and Micromeasure Dual Scanner are also available for complete 3D surface imaging. This technology is available from Micro Photonics Inc. Micro Photonics has been a leading provider of materials technology instruments and laboratory testing since 1992. The company specializes in: Nano and Micro Mechanical Testing, X-Ray Micro Tomography, Ellipsometery, X-Ray Diffraction, 3D Non-Contact Profilometry, Thin Film Analysis, Biological Imaging Instruments and NSOM, SPM & AFM systems.
Micro Photonics presenta un perfilómetro de doble escaneo y un instrumento de escaneo
Irvine, California, 25 de enero de 2005. Micro Photonics Inc. ha anunciado hoy la última incorporación a su línea de instrumentos para el análisis de materiales superficiales. El perfilómetro de doble escaneo, el primero de su clase, permite realizar simultáneamente un escaneo de espesor y un escaneo de perfilometría dual. Fijada en una plataforma entre las dos plumas, la plataforma de muestras se mueve en dirección x-y, lo que permite a las dos sondas determinar un perfil de superficie sincronizado. El software del sistema calcula la distancia conocida entre las plumas, con la longitud de onda de la luz blanca incidente reflejada desde la superficie de la muestra, para determinar el espesor de la muestra en cualquier punto dado. Utilizando el principio de la aberración cromática, dos plumas pasan luz blanca a través de la lente del objetivo y reflejan esa luz en la superficie de la muestra. A continuación, la lente recoge la longitud de onda de la luz blanca incidente y la vuelve a enfocar a una distancia variable de la lente. Esta tecnología exclusiva está disponible en Micro Photonics Inc. Micro Photonics es un proveedor líder de instrumentos de tecnología de materiales y pruebas de laboratorio desde hace más de doce años. La empresa se especializa en: pruebas nanométricas y micrométricas, microtomografía de rayos X, elipsometría, difracción de rayos X, 3D sin contacto. Perfilómetro, análisis de películas delgadas, instrumentos de imagen biológica y sistemas NSOM, SPM y AFM.
Micro Photonics Offers Breakthrough Technology for Temperature Specific Mechanical Testing
Irvine, California – April 22, 2004 – Micro Photonics Inc., a leading provider of surface materials instruments and laboratory services, introduces a breakthrough in materials technology, temperature specific mechanical testing. Researchers can easily attach the heating/cooling module to either hardness or scratch platforms to achieve temperatures between the ranges of -196°C and 600°C. Once in place, the module, consisting of a platinum resistance coil, and nearly fully encapsulating enclosure thusly reducing thermal drift, produces highly stable and accurate temperature control. Utilizing the Nano/Micro Hardness platform also offers another unique advantage: a differential surface-indenter depth technique to counter the effects of natural thermal expansion of the sample under test, a technology not available with other hardness testing instruments. Although the majority of indentation testing is performed at room temperature producing efficient results, the need to investigate the mechanical properties of certain materials at or near their in-service temperatures has grown significantly in recent years, prompting the development of this technology. Micro Photonics offers contract laboratory testing services, instruments, after-sales service and training for a wide range of surface metrology instruments including: nano/micro mechanical testing, friction, wear, adhesion, scratch resistance and fracture toughness. Ellipsometers are available for thin film thickness and optical properties (n&k), and a large array of non-contact surface profiling instruments for studying roughness, dimensional analysis, and radius of curvature and thickness properties. In addition, Micro Photonics offers x-ray microtomograghy instruments for imaging and analyzing internal microstructures.
