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プロフィロメーターが新たな地平を切り拓く

2008 年 12 月 2 日カリフォルニア州アーバイン - ナノベアは、非接触式プロファイラのラインアップに、測定速度が 180 倍以上高速化されたシステムを追加することを発表しまし た。この新しい進歩により、ナノベアのプロフィロメータは、より時間的制約のある生産および品質管理環境に適した速度に到達することができるようになりました。このプロフィロメーターの新しい進歩は、このような特殊な環境で使用するためのブレークスルーとなります。これまで、このプロファイリング技術はポイント・バイ・ポイント測定であり、測定試料が光学系を往復する間に1つのデータポイントを取得し、3Dマッピングを作成する必要がありました。今回の新技術では、180点の測定ポイントを同時に取得することができ、表面の3Dマッピングを作成する時間を大幅に短縮することができます。「この新技術により、高いスループットを必要とする新しい市場に対応できるようになります。と、Nanovea社のプロダクトマネージャーであるCraig Leisingは述べました。新しい プロフィロメーター システムは1×180の測定点アレイを使用し、1秒間に最大1800ラインのスキャンが可能で、全体のスキャンレートは1秒間に最大324,000ポイントになります。高解像度で広い面積を数秒で測定することができ、高速検査のための画像認識ソフトウェアを装備することができます。また、オプションとして、180点×230ラインを測定するフィールドスキャン機能を実現するためのスキャンミラーも用意する予定です。また、カスタムインラインシステムも用意する予定です。