월간 아카이브: 12월 2008

프로파일로미터 브레이크, 새로운 지평을 열다

2008년 12월 2일, 어바인, 캘리포니아 - 나노베아는 오늘 자사의 비접촉식 프로파일러 라인업에 측정 속도가 180배 이상 빠른 시스템이 포함될 것이라고 발표했습니다. 이 새로운 발전으로 나노베아의 프로파일로미터는 이제 더 많은 시간 제약이 있는 생산 및 품질 관리 환경에 적합한 속도에 도달할 수 있는 능력을 갖추게 되었습니다. 프로파일로미터 기술의 새로운 발전은 이러한 특정 환경에서 사용하기 위한 획기적인 발전입니다. 이 새로운 발전 이전에는 프로파일링 기술을 사용하려면 측정 중인 샘플이 광학장치 아래에서 앞뒤로 움직이면서 단일 데이터 포인트를 수집하여 3D 매핑을 생성하는 포인트별 측정이 필요했습니다. 이 새로운 기술을 사용하면 180개의 측정 가능한 포인트를 동시에 획득할 수 있어 표면의 3D 매핑을 생성하는 데 걸리는 시간이 크게 단축됩니다. "이 새로운 기능에 대해 기대가 큽니다. 높은 처리량을 요구하는 새로운 시장과 협력할 수 있는 능력을 갖추게 될 것입니다." 크레이그 라이징, 나노베아 제품 매니저의 말입니다. 새로운 프로파일 미터 시스템은 180개의 측정 포인트 어레이를 사용하며 초당 최대 1800개의 라인을 스캔할 수 있고 전체 스캔 속도는 초당 최대 324,000포인트입니다. 이 시스템은 고해상도로 몇 초 만에 넓은 영역을 측정할 수 있으며 고속 검사를 위한 이미지 인식 소프트웨어를 장착할 수 있습니다. 옵션으로 스캐닝 미러를 추가하면 180포인트 230라인을 측정할 수 있는 필드 스캐닝 기능도 사용할 수 있습니다. 맞춤형 인라인 시스템도 사용할 수 있습니다.