月度档案。3 月 2009

顶级半导体制造商选择Nanovea测绘仪，而不是很多。

2009年3月5日，加利福尼亚州欧文市--Nanovea今天宣布，它将向一家顶级半导体制造厂交付其第一个HS1000轮廓仪。HS1000的交付为Nanovea令人印象深刻的光学轮廓仪历史增添了另一个亮点，并为客户提供了一个更先进的测量速度选择，以满足高产量的需求。HS1000轮廓仪配备了一个无与伦比的测量速度、自动化和纳米分辨率的组合。在Nanovea HS1000轮廓仪之前，全自动化和白光轴向色度技术的独特优势是在一个单一的高扫描速度仪器中很少见的功能；客户要求的功能，只有Nanovea可以提供。传统的高速仪器通常会牺牲一个功能来换取另一个功能，即速度或分辨率，这限制了用户的整体测量能力。HS1000轮廓仪的平台速度可以达到1米/秒，比同类的大多数光学轮廓仪快50倍。HS1000轮廓仪配备了31KHz白光轴向色度传感器，XY测量区域为400mm x 600mm，在最大的平台速度下，每32µm就可以测量一个点，在不到1秒的时间内走完整个400mm（按比例较慢的平台速度可以获得更高的分辨率）。此外，HS1000轮廓仪有一个机器视觉相机选项，可以对精确选择的表面特征进行自动识别，几乎不需要用户互动。用户友好型软件和可选的机器视觉相机可以自动扫描表面，识别所有感兴趣的特征。然后这些特征可以被自动测量，或者用户可以从列表中选择要测量的特征。优异的整体功能组合使HS1000 轮廓仪 毫无疑问，它是半导体、太阳能和制药行业对高产能要求的首选仪器。"不言而喻，获得该客户选择的重要性。我为我们的团队有能力提供这样一个重要的机会而感到自豪，"Nanovea的产品经理Craig Leising说。