Kategorie: Profilometrie | Ebenheit und Verzug
Oberflächenrauhigkeit und Eigenschaften einer Solarzelle
Inspektion der Oberflächenbeschaffenheit von Holzfußböden
Tragbarkeit und Flexibilität des berührungslosen 3D-Profilometers Jr25
Ebenheitsmessung von Bildschirmen mit schneller 3D-Profilometrie
Messung der Ebenheit ist eine wichtige geometrische Oberflächenqualität bei der Herstellung von Präzisionsteilen und -baugruppen. Die Ebenheit der Oberfläche spielt eine entscheidende Rolle für die Endverwendung des Produkts. So erfordern beispielsweise Teile, die über eine Fläche luft- oder flüssigkeitsdicht verbunden sind, strenge Oberflächenbedingungen mit hervorragender Ebenheit an der Kontaktfläche. Die Ebenheit des Bildschirms ist entscheidend für die Funktionalität und Ästhetik elektronischer Geräte wie Handys, Pads und Laptops. Jede Unregelmäßigkeit in der Ebenheit des Bildschirms kann den Eindruck und die Erfahrung des Benutzers mit dem Produkt negativ beeinflussen.
Siehe Videoclip oder Bericht lesen: Ebenheitsmessung von Bildschirmen mit schneller 3D-Profilometrie
Auswirkung von Luftfeuchtigkeit auf die Planlage von Papier
Die Ebenheit des Papiers ist entscheidend für die ordnungsgemäße Leistung von Druckpapier. Es vermittelt funktionale Eigenschaften und vermittelt einen Eindruck von der Papierqualität. Ein besseres Verständnis der Auswirkung der Feuchtigkeit auf die Ebenheit, Textur und Konsistenz des Papiers ermöglicht die Optimierung der Verarbeitungs- und Kontrollmaßnahmen, um das beste Produkt zu erhalten. Um die Verwendung von Papier in einer realistischen Anwendung zu simulieren, ist eine quantifizierbare, präzise und zuverlässige Oberflächeninspektion des Papiers in verschiedenen feuchten Umgebungen erforderlich. Der Nanovea Berührungslose 3D-Profilometer nutzt die chromatische Konfokaltechnologie mit der einzigartigen Fähigkeit, die Papieroberfläche präzise zu messen. Ein Feuchtigkeitsregler sorgt für eine präzise Steuerung der Luftfeuchtigkeit in einer versiegelten Kammer, in der die Testprobe der Feuchtigkeit ausgesetzt ist.
Ebenheitsmessung eines Wafers mit 3D-Profilometrie
In dieser Anwendung wird das Nanovea ST400 Profilometer wird verwendet, um den Querschnitt einer Wafer-Anordnung zu messen. Die gemessene Fläche wurde nach dem Zufallsprinzip ausgewählt und als groß genug angenommen, um Annahmen über eine viel größere Fläche treffen zu können. Oberfläche Ebenheitsmessung, Ebenheit und andere Oberflächenparameter werden zur Analyse der Oberfläche verwendet.