{"id":3355,"date":"2018-03-29T13:50:56","date_gmt":"2018-03-29T13:50:56","guid":{"rendered":"https:\/\/nanovea.com\/?p=3355"},"modified":"2021-06-22T22:02:31","modified_gmt":"2021-06-22T22:02:31","slug":"proprieta-meccaniche-dei-rivestimenti-per-wafer-al-carburo-di-silicio","status":"publish","type":"post","link":"https:\/\/nanovea.com\/it\/mechanical-properties-of-silicon-carbide-wafer-coatings\/","title":{"rendered":"Propriet\u00e0 meccaniche dei rivestimenti per wafer in carburo di silicio"},"content":{"rendered":"<p>La comprensione delle propriet\u00e0 meccaniche dei rivestimenti dei wafer in carburo di silicio \u00e8 fondamentale. Il processo di fabbricazione dei dispositivi microelettronici pu\u00f2 comprendere oltre 300 diverse fasi di lavorazione e pu\u00f2 durare da sei a otto settimane. Durante questo processo, il substrato del wafer deve essere in grado di resistere alle condizioni estreme della produzione, poich\u00e9 un fallimento in qualsiasi fase comporterebbe una perdita di tempo e denaro. Il test di <a href=\"https:\/\/nanovea.com\/micro-indentation-tester\/\">durezza<\/a>La resistenza all'adesione\/graffio e il tasso di COF\/usura del wafer devono soddisfare determinati requisiti per sopravvivere alle condizioni imposte durante il processo di produzione e applicazione, per garantire che non si verifichino guasti.<\/p>\n<p><a href=\"http:\/\/nanovea.com\/App-Notes\/NanoindentationofWafer.pdf\">Propriet\u00e0 meccaniche dei rivestimenti per wafer in carburo di silicio<\/a><\/p>","protected":false},"excerpt":{"rendered":"<p>Understanding the mechanical properties of silicon carbide wafer coatings is critical. The fabrication process for microelectronic devices can have over 300 different processing steps and can take anywhere from six to eight weeks. During this process, the wafer substrate must be able to withstand the extreme conditions of manufacturing, since a failure at any step [&hellip;]<\/p>\n","protected":false},"author":1,"featured_media":3359,"comment_status":"open","ping_status":"open","sticky":false,"template":"","format":"standard","meta":{"_exactmetrics_skip_tracking":false,"_exactmetrics_sitenote_active":false,"_exactmetrics_sitenote_note":"","_exactmetrics_sitenote_category":0,"footnotes":""},"categories":[7,348,338,349,337,355,335,345,346],"tags":[307],"class_list":["post-3355","post","type-post","status-publish","format-standard","has-post-thumbnail","hentry","category-application-notes","category-friction-testing-coefficient-of-friction","category-indentation-hardness-elastic","category-laboratory-testing","category-mechanical-testing","category-profilometry-volume-area","category-profilometry-testing","category-scratch-testing-adhesive-failure","category-scratch-testing-cohesive-failure","tag-properties-of-silicon"],"_links":{"self":[{"href":"https:\/\/nanovea.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/posts\/3355","targetHints":{"allow":["GET"]}}],"collection":[{"href":"https:\/\/nanovea.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/posts"}],"about":[{"href":"https:\/\/nanovea.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/types\/post"}],"author":[{"embeddable":true,"href":"https:\/\/nanovea.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/users\/1"}],"replies":[{"embeddable":true,"href":"https:\/\/nanovea.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/comments?post=3355"}],"version-history":[{"count":1,"href":"https:\/\/nanovea.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/posts\/3355\/revisions"}],"predecessor-version":[{"id":3356,"href":"https:\/\/nanovea.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/posts\/3355\/revisions\/3356"}],"wp:featuredmedia":[{"embeddable":true,"href":"https:\/\/nanovea.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/media\/3359"}],"wp:attachment":[{"href":"https:\/\/nanovea.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/media?parent=3355"}],"wp:term":[{"taxonomy":"category","embeddable":true,"href":"https:\/\/nanovea.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/categories?post=3355"},{"taxonomy":"post_tag","embeddable":true,"href":"https:\/\/nanovea.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/tags?post=3355"}],"curies":[{"name":"wp","href":"https:\/\/api.w.org\/{rel}","templated":true}]}}